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产品详情

电解水应用氧中氢传感器

产品名称：电解水应用氧中氢传感器
产品型号：TCD-HP-H2-O2
产品厂商：Xensor Integration
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简单介绍

氧中氢传感器

电解水应用氧中氢传感器

的详细介绍

TCD-HP-H2-O2低功耗快速响应氧中氢传感器

-电解水制氢应用

在电解水制氢气过程中，氧中氢传感器是确保系统安全性和效率的关键设备，主要用于监测电解槽氧气侧产物中残留的氢气浓度。氢气安全监测和膜新能研究工艺优化与效率提升是其具体应用和重要性。

TCD-HP-H2-O2热导式氧中氢传感器是采用MEMS技术设计，通过直接物理方法测量气体热导率方式运行，不需要参考气。氢气传感器没有采用传统的大功率的恒温气室设计，而采用独特温度补偿的算法，可在-40℃~+60℃下保证测量准确度和重复性，且波动性很小。传感器功耗只有0.6W，是传统的热导原理传感器的1/20。TCD-HP-H2-O2氧中氢传感器同时对被测气体中湿度进行修正，背景噪音在±50ppm，测量达到±1%FS测量精度。

TCD-HP-H2低功耗快速响应氧中氢传感器

TCD-HP-H2-O2采用的专有的精密的电路设计，极快响应时间，T90，只有3秒（@1L/分钟），达到读数稳定的时间T100为8秒，而传统的热导传感器需要30~50秒。传感器无需传统的加热恒温的等待（至少30分钟加热等待时间），从开机到测量工作结束大约需要在10分钟内完成，极大地提高了测量效率。

TCD-HP-H2-O2氧中氢传感器采用防爆设计，-40~+60℃温度补偿，无需加热恒温等待，耐压10bar，24VDC供电，4-20mA输出，两端气路接口1/8卡套，带湿度补偿，即使干燥剂逐渐失效，不影响测试精度。上图方向是正面安装，此时传感器芯片朝下。少量冷凝液态水或者其它的重力物颗粒物不会沉积在传感器芯片上，芯片不会被损坏或污染。

TCD-HP-H2低功耗快速响应氧中氢传感器内部结构

氧中氢传感器产品特点：

l 超快速响应，T90约3秒

l *小量程：0-5000 ppm H2/N2或H2/O2

l 功耗小，约0.6W

l 温度补偿并输出，无需加热恒温并等待。

l 温度补偿并输出，湿度对测量影响小。

l 流量补偿热导芯片设计，流量对测量影响小

l 背景噪音小，约±50ppm

l 同时测量氢气(H2)浓度、相对湿度（RH）和温度三个参数

l 8-10年长寿命，低维护

l 长期漂移小，通常只需零点校准，无需量程校准

l *大耐压：10 bar绝压

三、氧中氢传感器技术参数

1、一般特性

测量参数	氢气H2、相对湿度RH和温度T
测量原理	MEMS热导式
测量范围	H2：0-100%Vol. 湿度：0-100%RH 温度：-50~+90℃
尺寸	75 (长)x 36(宽)x 25 mm(高)
气路连接	1/8卡套
外形尺寸	70 mm x 52 mm x 66 mm
耐压	10 bar绝压
安装	4个M5螺钉
重量	550g

2、技术参数

线性误差	H2：±1%FS RH: ±2% RH T: ±1.5℃
流量	0.1~1.0L/min,校准流量 0.25L/min,
响应时间	T90：3s (@1000mL/min) 读数稳定时间T100：8s (@1000mL/min)
重复性（相对标准偏差）	±1%FS
*小检出限	0.03%FS
分辨率	0.001%
长期稳定性（零点）	≤±1%FS/年
长期稳定性（量程）	≤±1%FS/年

3、电气特性

供电电压	24VDC ±5%
工作电流	0.6W @24VDC，取决于外接负载
输出信号	4~20 mA
启动时间	0.3秒，无需加热恒温等待
数据更新速率	3 Hz
平均值滤波	可设置，off,2,4,6,8,16

4、环境条件：

补偿温度	-40~+85℃
工作湿度	0%~95%RH(无结露)
储存温度	-40~+85℃

*：以上典型值是基于（101.3kPa,25℃，0.5L/min流量下的无结露的洁净气体）环境下测得。

5、背景噪音曲线：

背景噪音小，约±50ppm

6、温度和湿度影响曲线：

TCD-HP-H2低功耗快速响应氢气传感器温度和湿度影响

在85℃+20%RH(130000PPM H2O湿度下)氢气的变化为-0.03% H2(-3000PPM)左右